Kokusai Electric Corporation

05/25/2026 | Press release | Archived content

ALD/ALE2026にて招待講演およびポスター発表を実施

2026年5月25日

株式会社KOKUSAI ELECTRIC（代表取締役 社長執行役員：塚田 和徳、本社：東京都千代田区）は、JW Marriott Tampa Water Street（アメリカ合衆国フロリダ州）で6月28日（日）から7月1日（水）の4日間開催される「AVS 26th International Conference on Atomic Layer Deposition」(ALD/ALE2026)にて、招待講演およびポスター発表を実施します。

同学会は、原子層堆積（ALD）および原子層エッチング（ALE）に関する世界最大級・最高峰の国際会議であり、半導体、先端デバイス、ナノテクノロジー分野を支える薄膜形成技術をテーマに、材料科学や装置プロセス技術から応用まで、幅広い最新研究成果が発表されます。第一線で活躍している産学官の研究者や技術者が一堂に会し、基礎から実用化、将来展望までを深く議論できる点が大きな特長です。また、微細化・高機能化が加速する中、次世代のものづくりの方向性を示す場として、世界的に高い注目と影響力を持っています。

当社による招待講演およびポスター発表について

発表種別

日時

講演番号およびテーマ

発表者

招待講演

7月1日（水）
午後1時30分～午後2時（現地時間）

[AM1-WeA-1]
Advanced Batch Atomic Layer Deposition Technology for Future 3D Device（次世代3次元構造デバイス向け先端バッチALD技術）

原田和宏

ポスター発表

6月30日（火）午後5時45分～午後７時（現地時間）

[AS-TuP-3]
Inhibitor Selection for Area-Selective SiO Deposition: Limited Growth on SiO Surfaces and Unrestricted Growth on SiN Surfaces through Theoretical and Experimental Studies（SiO表面での成膜抑制とSiN表面での成膜非抑制を実現する選択SiO成膜のインヒビター選定に関する理論的・実験的研究）

長橋知也、中谷公彦、早稲田崇之、宮田翔馬、濵田啓太郎、高野望、柄澤元、堀池亮太、橋本良知、廣瀬義朗

ALD/ALE2026の概要

会期

2026年6月28日（日）～7月1日（水）

会場

JW Marriott Tampa Water Street（510 Water Street, Tampa, FL 33602, USA）

公式サイト

今後も当社グループは、コーポレートスローガン「技術と対話で未来をつくる（Technology & Tai-wa for Tomorrow）」のもと、事業とESGの取り組み（環境・社会課題の解決、ガバナンスの強化）の両側面から経済価値および環境・社会価値を追求することで、SDGsの達成に寄与するとともに、持続可能な社会の実現と当社グループの持続的な発展の両立をめざします。

Kokusai Electric Corporation published this content on May 25, 2026, and is solely responsible for the information contained herein. Distributed via Public Technologies (PUBT), unedited and unaltered, on November 03, 2026 at 14:22 UTC. If you believe the information included in the content is inaccurate or outdated and requires editing or removal, please contact us at [email protected]